Filmherstellungsverfahren und Vorrichtung unter Verwendung von Plasma-Cvd
EP1591559
Art A1
2. November 2005
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1591559
- Aktenzeichen
- EP03777264
- Anmeldetag
- 4. Dezember 2003
- Veröffentlichung
- 2. November 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/455C23C16/08C23C16/34H01L21/28H01L21/285
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.250 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Gleiss, Alf-Olav
Stuttgart, Deutschland
424
Patente gesamt
31
Fachgebiete
15
Anmelder-Länder
Schwerpunkte