Halbleitende Struktur auf einem Substrat mit Starker Rauheit

EP1593152 Art B1 25. Januar 2012

Anmelder: Soitec, S.O.I.Tec Silicon Insulator Technologies 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1593152
Aktenzeichen
EP04710053
Anmeldetag
11. Februar 2004
Veröffentlichung
25. Januar 2012
Erteilung
25. Januar 2012
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/762H01L21/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Soitec
S.O.I.Tec Silicon Insulator Technologies
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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