Fotoresistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
EP1598701
Art A1
23. November 2005
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1598701
- Aktenzeichen
- EP04714426
- Anmeldetag
- 25. Februar 2004
- Veröffentlichung
- 23. November 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/038G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Ahner, Philippe
Paris La Défense, Frankreich
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Weitere Vertreter
-
Poulin, Gérard
NoneParis