Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1598706
Art B1
28. März 2012
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1598706
- Aktenzeichen
- EP05253060
- Anmeldetag
- 18. Mai 2005
- Veröffentlichung
- 28. März 2012
- Erteilung
- 28. März 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon