Chemisch-Mechanische Polierzusammensetzung (cmp) enthaltend eine Sulfonsäure und ein Verfahren zum Polieren von Edelmetallen
EP1599555
Art B1
12. Juni 2019
Anmelder: Cabot Microelectronics Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1599555
- Aktenzeichen
- EP04712639
- Anmeldetag
- 19. Februar 2004
- Veröffentlichung
- 12. Juni 2019
- Erteilung
- 12. Juni 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09G1/02C09K3/14H01L21/768H01L21/321B24B37/04C23F3/04C23F3/06H01L49/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Cabot Microelectronics Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cabot Microelectronics
Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.
290 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Trueman, Lucy Petra
Birmingham, Großbritannien
598
Patente gesamt
34
Fachgebiete
14
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Barker Brettell LLP
Barker Brettell LLP · Kongens Lyngby