Wasserstoffdiffusionsbarriere für einen Ferroelektrischen Kondensator

EP1599895 Art A2 30. November 2005

Anmelder: Infineon Technologies AG, Kabushiki Kaisha Toshiba, KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1599895
Aktenzeichen: EP04710030
Anmeldetag: 11. Februar 2004
Veröffentlichung: 30. November 2005
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02H01L21/8246H01L27/115

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Infineon Technologies AG
Kabushiki Kaisha Toshiba
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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