Lithographischer Apparat mit Spülgaseinrichtung

EP1600819 Art B1 11. März 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1600819
Aktenzeichen
EP05076194
Anmeldetag
23. Mai 2005
Veröffentlichung
11. März 2009
Erteilung
11. März 2009
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen