Entladungsproduktions-Plasma-Euv-Lichtquelle
EP1602116
Art A2
7. Dezember 2005
Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1602116
- Aktenzeichen
- EP04716949
- Anmeldetag
- 3. März 2004
- Veröffentlichung
- 7. Dezember 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J1/52G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Cymer, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cymer
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
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