Verarbeitungssystem und Verfahren zum Chemischen Behandeln eines Substrats
EP1604388
Art B1
19. Januar 2011
Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1604388
- Aktenzeichen
- EP04757455
- Anmeldetag
- 16. März 2004
- Veröffentlichung
- 19. Januar 2011
- Erteilung
- 19. Januar 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
Vertreten von
Freeman, Avi
Harrow, Großbritannien
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Weitere Vertreter
-
Flint, Adam
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