Verarbeitungssystem und Verfahren zum Thermischen Behandeln eines Substrats
EP1604389
Art B1
19. August 2009
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1604389
- Aktenzeichen
- EP04757456
- Anmeldetag
- 16. März 2004
- Veröffentlichung
- 19. August 2009
- Erteilung
- 19. August 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.253 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Freeman, Avi
Harrow, Großbritannien
698
Patente gesamt
33
Fachgebiete
18
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Flint, Adam
Page White & Farrer · London