Post-Nitridation Kalzinierung mit Zwei Schritten für Niedriger Eot Plasma-Nitridierte Gate Dielektrische Schichten
EP1604396
Art A2
14. Dezember 2005
Anmelder: Applied Materials, Inc., APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1604396
- Aktenzeichen
- EP04718136
- Anmeldetag
- 5. März 2004
- Veröffentlichung
- 14. Dezember 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/314
Abstract
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Anmelder
- Firmen
- Applied Materials, Inc.
APPLIED MATERIALS, INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
Bayliss, Geoffrey Cyril
London, Großbritannien
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