Eine Methode zur Herstellung einer Halbleiteranordnung mit einem Gate-Dielektrikum mit Hohem K

EP1604405 Art A1 14. Dezember 2005

Anmelder: Intel Corporation, INTEL CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1604405
Aktenzeichen
EP03800030
Anmeldetag
18. Dezember 2003
Veröffentlichung
14. Dezember 2005
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/51H01L21/28H01L21/336
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Intel Corporation
INTEL CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Kanzlei
Boehmert & Boehmert München, Deutschland

Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.

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