Verfahren und Vorrichtung zur Plasmaerzeugung durch Elektrische Entladung in einem Entladungsraum
EP1604552
Art B1
25. Dezember 2013
Anmelder: Koninklijke Philips N.V., Philips Intellectual Property & Standards GmbH, Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., Koninklijke Philips Electronics, N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1604552
- Aktenzeichen
- EP04717715
- Anmeldetag
- 5. März 2004
- Veröffentlichung
- 25. Dezember 2013
- Erteilung
- 25. Dezember 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05H1/48
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Koninklijke Philips N.V.
Philips Intellectual Property & Standards GmbH
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Koninklijke Philips Electronics, N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
Philips
Niederländisches Technologieunternehmen mit Sitz in Amsterdam, spezialisiert auf Medizintechnik, Diagnosegeräte, Patientenüberwachung sowie Gesundheits- und Wellnessprodukte.
43.499 Patente in unserer Datenbank
🇩🇪
Fraunhofer-Gesellschaft
Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.
1.326 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Verweij, Petronella Daniëlle
Eindhoven, Niederlande
4.068
Patente gesamt
31
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Volmer, Georg
NoneAachen