Halbleiterverarbeitungsverfahren zur Verarbeitung eines zu Verarbeitenden Substrats und Vorrichtung dafür
EP1605075
Art A1
14. Dezember 2005
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1605075
- Aktenzeichen
- EP04708028
- Anmeldetag
- 4. Februar 2004
- Veröffentlichung
- 14. Dezember 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Gleiss, Alf-Olav
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