Verfahren und Vorrichtung zur Trockenentwicklung eines Mehrlagenphotoresist
EP1609175
Art A1
28. Dezember 2005
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, International Business Machines Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1609175
- Aktenzeichen
- EP04704022
- Anmeldetag
- 21. Januar 2004
- Veröffentlichung
- 28. Dezember 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/027H01L21/311G03F7/09H01L21/033H01L21/3105H01L21/768H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
International Business Machines Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
🇺🇸
IBM
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
9.753 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Freeman, Avi
Harrow, Großbritannien
698
Patente gesamt
33
Fachgebiete
18
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Flint, Adam
Page White & Farrer · London