Siliziumsubstrat und Verfahren zu Seiner Herstellung
EP1610159
Art A1
28. Dezember 2005
Anmelder: HAMAMATSU PHOTONICS K. K., Nagata, Seiichi 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1610159
- Aktenzeichen
- EP04724866
- Anmeldetag
- 31. März 2004
- Veröffentlichung
- 28. Dezember 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B6/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- HAMAMATSU PHOTONICS K. K.
Nagata, Seiichi - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hamamatsu Photonics
Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.
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Vertreten von
Frost, Alex John
London, Großbritannien
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