Resistzusammensetzung für einen Flüssigkeitseintauchbelichtungsprozess und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur damit

EP1610178 Art A1 28. Dezember 2005

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1610178
Aktenzeichen
EP04722980
Anmeldetag
24. März 2004
Veröffentlichung
28. Dezember 2005
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/039G03F7/038G03F7/004
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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