System, Verfahren und Vorrichtung zur Verbesserten Lokalen Doppel-Damascene-Planarisierung
EP1611599
Art A2
4. Januar 2006
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1611599
- Aktenzeichen
- EP04719319
- Anmeldetag
- 10. März 2004
- Veröffentlichung
- 4. Januar 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/321H01L21/3213H01L21/768
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Vertreten von
Thomson, Paul Anthony
Birkenhead, Großbritannien
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