Beleuchtungsoptimierung für spezifische Maskenmuster
EP1612606
Art A3
25. März 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1612606
- Aktenzeichen
- EP05021788
- Anmeldetag
- 22. Februar 2002
- Veröffentlichung
- 25. März 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
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Fachgebiete
2
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon