Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung einer Cvd-Anlage
Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, ULVAC, Inc., Canon Anelva Corporation, SANYO Electric Co., Ltd., Sony Corporation, Tokyo Electron Limited, Hitachi Kokusai Electric Inc., Fujitsu Semiconductor Limited, Renesas Electronics Corporation, RESEARCH INSTITUTE OF INNOVATIVE TECHNOLOGY FOR THE EARTH 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1612856
- Aktenzeichen
- EP04720142
- Anmeldetag
- 12. März 2004
- Veröffentlichung
- 8. Februar 2012
- Erteilung
- 8. Februar 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/31C23C16/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
ULVAC, Inc.
Canon Anelva Corporation
SANYO Electric Co., Ltd.
Sony Corporation
Tokyo Electron Limited
Hitachi Kokusai Electric Inc.
Fujitsu Semiconductor Limited
Renesas Electronics Corporation
RESEARCH INSTITUTE OF INNOVATIVE TECHNOLOGY FOR THE EARTH - Land
- 🇯🇵 Japan
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
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NoneLondon