Reinigungsverfahren für Optik in Immersionslithographie

EP1614001 Art B1 25. November 2009

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1614001
Aktenzeichen: EP04759103
Anmeldetag: 2. April 2004
Veröffentlichung: 25. November 2009
Erteilung: 25. November 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G03B27/42G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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