Auf organischem Siliziumoxid basierende Schicht, Zusammensetzung, und Verfahren zur Herstellung davon, und Halbleiteranordnung
EP1615260
Art A3
16. September 2009
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1615260
- Aktenzeichen
- EP05014801
- Anmeldetag
- 7. Juli 2005
- Veröffentlichung
- 16. September 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/312C09D183/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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