Siliciumhaltiger Film, Verfahren zu dessen Herstellung, Zusammensetzung zur Herstellung einer Isolierschicht für Halbleiter, Verbindungsstruktur und Halbleiterelement

EP1619226 Art A1 25. Januar 2006

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1619226
Aktenzeichen
EP05015904
Anmeldetag
21. Juli 2005
Veröffentlichung
25. Januar 2006
Rechtsraum
EP
IPC
C09D183/10C09D4/00C08F292/00H01L21/027G03F7/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
Vertreten von
Leson, Thomas Johannes Alois, Dipl.-Ing München, Deutschland
4.590
Patente gesamt
34
Fachgebiete
21
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Fahrzeugtechnik (Automobil, Bahn & Schiff) Nachrichtentechnik & Telekommunikation
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