Methode zur Herstellung einer Membranmaske, Methode zur Herstellung eines Halbleiterbauelements und Membranmaske

EP1619551 Art A2 25. Januar 2006

Anmelder: NEC Electronics Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1619551
Aktenzeichen: EP05002943
Anmeldetag: 11. Februar 2005
Veröffentlichung: 25. Januar 2006
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NEC Electronics Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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