Designmethode für eine Belichtungsmaske für geladene Teilchen, Belichtungsmaske für geladene Teilchen und Belichtungsmethode hierfür

EP1619552 Art A2 25. Januar 2006

Anmelder: Renesas Technology Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1619552
Aktenzeichen: EP04030140
Anmeldetag: 20. Dezember 2004
Veröffentlichung: 25. Januar 2006
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Renesas Technology Corp.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Renesas Technology

Renesas Technology war ein japanischer Halbleiterhersteller und Vorgängerunternehmen der heutigen Renesas Electronics. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Software, ergänzt um Datenspeicher- und Schaltungstechnik. Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2009.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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