Positivresistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung von Resiststrukturen
EP1619553
Art A1
25. Januar 2006
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1619553
- Aktenzeichen
- EP04727762
- Anmeldetag
- 15. April 2004
- Veröffentlichung
- 25. Januar 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Vertreten von
Hart-Davis, Jason
Paris, Frankreich
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