Verfahren und Masken zur Reduzierung der Auswirkung von Streulicht in der optischen Lithographie
EP1619556
Art A1
25. Januar 2006
Anmelder: IMEC, Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1619556
- Aktenzeichen
- EP05015415
- Anmeldetag
- 15. Juli 2005
- Veröffentlichung
- 25. Januar 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC
Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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