Zusammensetzung zur Entfernung von Photoresist-Rückständen und/oder Ätz-Rückständen auf einem Substrat und die Verwendung dieser Zusammensetzung
EP1619557
Art B1
25. März 2015
Anmelder: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1619557
- Aktenzeichen
- EP05015627
- Anmeldetag
- 19. Juli 2005
- Veröffentlichung
- 25. März 2015
- Erteilung
- 25. März 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/42// H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Air Products
US-amerikanisches Industriegasunternehmen mit Sitz in Allentown, Pennsylvania, Hersteller und Lieferant von Industriegasen sowie zugehörigen Anlagen und Verfahrenstechnik.
1.683 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Teipel, Susanne, Dr
München, Deutschland
174
Patente gesamt
22
Fachgebiete
9
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
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