Zusammensetzung zur Entfernung von Photoresist-Rückständen und/oder Ätz-Rückständen auf einem Substrat und die Verwendung dieser Zusammensetzung
EP1619557
Art B1
25. März 2015
Anmelder: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1619557
- Aktenzeichen
- EP05015627
- Anmeldetag
- 19. Juli 2005
- Veröffentlichung
- 25. März 2015
- Erteilung
- 25. März 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/42// H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
Vertreten von
Teipel, Susanne
München, Deutschland
50
Patente gesamt
14
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
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