Einrichtung zur Anwendung einer Halbleiterbehandlung auf das Behandlungssubjektsubstrat

EP1619717 Art A1 25. Januar 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1619717
Aktenzeichen
EP04728417
Anmeldetag
20. April 2004
Veröffentlichung
25. Januar 2006
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/68
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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