Photomaske und Verfahren zur Fokusmessung mittels dieser Maske
EP1621932
Art A1
1. Februar 2006
Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, Kabushi Kaisha Toshiba 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1621932
- Aktenzeichen
- EP05016078
- Anmeldetag
- 25. Juli 2005
- Veröffentlichung
- 1. Februar 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Kabushiki Kaisha Toshiba
Kabushi Kaisha Toshiba - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München