Lithographischer Apparat und Verfahren zum Kalibrieren desselben

EP1621933 Art B1 24. Februar 2010

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1621933
Aktenzeichen
EP05076665
Anmeldetag
19. Juli 2005
Veröffentlichung
24. Februar 2010
Erteilung
24. Februar 2010
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands BV
Land
🇳🇱 Niederlande

Fachgebiete

Optik & Fototechnik
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Steuerungs- & Regelungstechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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