Magnetronsputtereinrichtung, Zylinderkathode und Verfahren zur Aufbringung von dünnen Mehrkomponentenschichten auf einem Substrat

EP1626433 Art B1 21. Februar 2007

Anmelder: Applied Materials GmbH & Co. KG, Applied Films GmbH & Co. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1626433
Aktenzeichen
EP04018926
Anmeldetag
10. August 2004
Veröffentlichung
21. Februar 2007
Erteilung
21. Februar 2007
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/34
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Applied Materials GmbH & Co. KG
Applied Films GmbH & Co. KG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen