Magnetronsputtereinrichtung, Zylinderkathode und Verfahren zur Aufbringung von dünnen Mehrkomponentenschichten auf einem Substrat
EP1626433
Art B1
21. Februar 2007
Anmelder: Applied Materials GmbH & Co. KG, Applied Films GmbH & Co. KG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1626433
- Aktenzeichen
- EP04018926
- Anmeldetag
- 10. August 2004
- Veröffentlichung
- 21. Februar 2007
- Erteilung
- 21. Februar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Applied Materials GmbH & Co. KG
Applied Films GmbH & Co. KG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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