Für die Entfernung von Fotoresist, Fotoresist-Nebenprodukten und Ätzresten Geeignete Zusammensetzungen und deren Verwendung

EP1627259 Art B1 1. Juli 2015

Anmelder: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1627259
Aktenzeichen
EP04753146
Anmeldetag
24. Mai 2004
Veröffentlichung
1. Juli 2015
Erteilung
1. Juli 2015
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/26G03F7/30G03F7/42H01L21/3213H01L21/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Air Products

US-amerikanisches Industriegasunternehmen mit Sitz in Allentown, Pennsylvania, Hersteller und Lieferant von Industriegasen sowie zugehörigen Anlagen und Verfahrenstechnik.

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Kanzlei
ANDREA | SOMMER / Patentanwälte Partnerschaft mbB München, Deutschland

ANDREA | SOMMER Patentanwälte Partnerschaft mbB mit Sitz in München, in direkter Nähe zum Europäischen Patentamt. Vertritt vor EPA, EUIPO und WIPO mit Schwerpunkten in Chemie und Pharmazie, berät von Einzelerfindern und Start-ups bis zu internationalen Konzernen.

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