Für die Entfernung von Fotoresist, Fotoresist-Nebenprodukten und Ätzresten Geeignete Zusammensetzungen und deren Verwendung
EP1627259
Art B1
1. Juli 2015
Anmelder: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1627259
- Aktenzeichen
- EP04753146
- Anmeldetag
- 24. Mai 2004
- Veröffentlichung
- 1. Juli 2015
- Erteilung
- 1. Juli 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/26G03F7/30G03F7/42H01L21/3213H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Air Products
US-amerikanisches Industriegasunternehmen mit Sitz in Allentown, Pennsylvania, Hersteller und Lieferant von Industriegasen sowie zugehörigen Anlagen und Verfahrenstechnik.
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Kanzlei
ANDREA | SOMMER / Patentanwälte Partnerschaft mbB
München, Deutschland
ANDREA | SOMMER Patentanwälte Partnerschaft mbB mit Sitz in München, in direkter Nähe zum Europäischen Patentamt. Vertritt vor EPA, EUIPO und WIPO mit Schwerpunkten in Chemie und Pharmazie, berät von Einzelerfindern und Start-ups bis zu internationalen Konzernen.
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Zanoli, Enrico
NoneMilano