Verfahren und System zum Ätzen eines Dielektrischen Materials mit Hohem K
EP1629529
Art A2
1. März 2006
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1629529
- Aktenzeichen
- EP04751808
- Anmeldetag
- 11. Mai 2004
- Veröffentlichung
- 1. März 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
Vertreten von
Freeman, Avi
Harrow, Großbritannien
698
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Fachgebiete
18
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Flint, Adam
Page White & Farrer · London