Verfahren zum Entwurf einer Beleuchtungsquelle, Verfahren zum Entwurf einer Maskenstruktur, Verfahren zur Herstellung einer Photomaske, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements und Computerprogrammprodukt
EP1630614
Art B1
15. August 2007
Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1630614
- Aktenzeichen
- EP05018261
- Anmeldetag
- 23. August 2005
- Veröffentlichung
- 15. August 2007
- Erteilung
- 15. August 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Kabushiki Kaisha Toshiba
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München