Verdampfer und Halbleiter-Verarbeitungsvorrichtung
EP1630859
Art B1
13. Juli 2011
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1630859
- Aktenzeichen
- EP04732201
- Anmeldetag
- 11. Mai 2004
- Veröffentlichung
- 13. Juli 2011
- Erteilung
- 13. Juli 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/31C23C16/448
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.253 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Schwahn, Hartmut
Stuttgart, Deutschland
174
Patente gesamt
26
Fachgebiete
14
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