Plasmaverarbeitungsvorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
EP1631128
Art A1
1. März 2006
Anmelder: SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1631128
- Aktenzeichen
- EP04732743
- Anmeldetag
- 13. Mai 2004
- Veröffentlichung
- 1. März 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05H1/24H01L21/3065H01L21/205
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SEKISUI CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sekisui Chemical
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.
1.407 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Urner, Peter
München, Deutschland
1.318
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Fachgebiete
10
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