Epitaktischer Siliciumwafer und Verfahren zur Herstellung eines Epitaktischen Siliciumwafers
EP1632591
Art A1
8. März 2006
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1632591
- Aktenzeichen
- EP04725526
- Anmeldetag
- 2. April 2004
- Veröffentlichung
- 8. März 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Vertreten von
Jones, Helen M.M
London, Großbritannien
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