Entwicklerzusammensetzung für Fotoresiste und Verfahren zur Erzeugung von Resistmustern
EP1634126
Art B1
27. November 2013
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1634126
- Aktenzeichen
- EP04736591
- Anmeldetag
- 10. Juni 2004
- Veröffentlichung
- 27. November 2013
- Erteilung
- 27. November 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Vertreten von
Hart-Davis, Jason
Paris, Frankreich
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Weitere Vertreter
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Portal, Gérard
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