Spirocyclische Ketalgruppe-enthaltendes Photoresistmonomer, dessen Polymer und es enthaltende Photoresistzusammensetzung

EP1637928 Art B1 2. Mai 2012

Anmelder: DONGJIN SEMICHEM CO., LTD 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1637928
Aktenzeichen: EP05020013
Anmeldetag: 14. September 2005
Veröffentlichung: 2. Mai 2012
Erteilung: 2. Mai 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039C08F10/00C08F220/18C07D317/72C07D493/10

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: DONGJIN SEMICHEM CO., LTD
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von