Vorrichtung zum Teilen und Zuführen eines Gasstroms aus einer mit einer Strömungsratenregeleinrichtung Ausgestatteten Gaszuführungsanlage in eine Kammer
Anmelder: Fujikin Incorporated, TOKYO ELECTRON LIMITED, FUJIKIN INCORPORATED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1637950
- Aktenzeichen
- EP04745747
- Anmeldetag
- 10. Juni 2004
- Veröffentlichung
- 22. März 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G05D7/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Fujikin Incorporated
TOKYO ELECTRON LIMITED
FUJIKIN INCORPORATED - Land
- 🇯🇵 Japan
Der Anmelder ist ein japanischer Hersteller von Fluidsteuerungs- und Ventiltechnik für die Halbleiterfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie auf Steuerungs- und Regelungstechnik und Messtechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
452 Patente in unserer Datenbank
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.250 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
-
Hector, Annabel Mary
NoneLondon