Plasmaverarbeitungseinrichtung
EP1638139
Art A1
22. März 2006
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1638139
- Aktenzeichen
- EP04733924
- Anmeldetag
- 19. Mai 2004
- Veröffentlichung
- 22. März 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/31H01L21/3065C23C16/505C23F4/00H05H1/46H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.250 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
De Hoop, Eric
Den Haag, Niederlande
406
Patente gesamt
29
Fachgebiete
17
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Schwerpunkte