Korrektureinrichtung zur Kompensation von Störungen der Polarisationsverteilung sowie Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie
EP1639393
Art B1
18. August 2010
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1639393
- Aktenzeichen
- EP04739966
- Anmeldetag
- 17. Juni 2004
- Veröffentlichung
- 18. August 2010
- Erteilung
- 18. August 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B5/30G02B27/00G02B13/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Schwanhäusser, Gernot
Stuttgart, Deutschland
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