Verfahren und Apparat für das Entfernen durch Reaktiven Gasen von einer Zurückgebliebenen Organischen Schicht von einem Substrat

EP1639631 Art A1 29. März 2006

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1639631
Aktenzeichen
EP04755013
Anmeldetag
10. Juni 2004
Veröffentlichung
29. März 2006
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/306
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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