Belichtungsverfahren, Substratstufe, Belichtungsvorrichtung und Verfahren zur Bauelementeherstellung

EP1641028 Art B1 5. August 2015

Anmelder: Nikon Corporation, NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1641028
Aktenzeichen: EP04746086
Anmeldetag: 11. Juni 2004
Veröffentlichung: 5. August 2015
Erteilung: 5. August 2015
Rechtsraum: EP
IPC: G03B27/58G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Nikon Corporation
NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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