Verfahren zum Entwurf einer Belichtungsmaske, Belichtungsmethode, Verfahren zur Herstellung eines Musters und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

EP1642171 Art B1 15. Juni 2011

Anmelder: CANON KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1642171
Aktenzeichen: EP04746844
Anmeldetag: 25. Juni 2004
Veröffentlichung: 15. Juni 2011
Erteilung: 15. Juni 2011
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/14G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CANON KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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