Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Extrem Ultravioletter Strahlung oder Weicher Röntgenstrahlung
Anmelder: Bruker Advanced Supercon GmbH, Ushio Denki Kabushiki Kaisha, USHIO Denki Kabushiki Kaisha, XTREME technologies GmbH, Aixuv GmbH, COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE, Xtreme Technologies GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1642482
- Aktenzeichen
- EP03817333
- Anmeldetag
- 27. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 2. Oktober 2013
- Erteilung
- 2. Oktober 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Bruker Advanced Supercon GmbH
Ushio Denki Kabushiki Kaisha
USHIO Denki Kabushiki Kaisha
XTREME technologies GmbH
Aixuv GmbH
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
Xtreme Technologies GmbH - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Japanischer Hersteller von Lichtquellen wie Speziallampen, Lasern und LED-Modulen für Industrie, Halbleiterfertigung und Optik mit Sitz in Tokio.
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Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
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