Verfahren zum Schutz einer optischen Komponente, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, und lithographisches Gerät enthaltend eine optische Komponente
EP1643310
Art B1
17. April 2013
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1643310
- Aktenzeichen
- EP05109177
- Anmeldetag
- 4. Oktober 2005
- Veröffentlichung
- 17. April 2013
- Erteilung
- 17. April 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20B08B7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
van Westenbrugge, Andries
NoneDen Haag