Fokus-Prüfmaske, Fokus-Messverfahren und Belichtungseinrichtung

EP1643542 Art A1 5. April 2006

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1643542
Aktenzeichen: EP04747152
Anmeldetag: 1. Juli 2004
Veröffentlichung: 5. April 2006
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/027G03F7/20G03F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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