Verfahren zur Herstellung eines Silicium-Epitaxial-Wafers und Silicium-Epitaxial-Wafer
EP1643544
Art A1
5. April 2006
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1643544
- Aktenzeichen
- EP04746194
- Anmeldetag
- 21. Juni 2004
- Veröffentlichung
- 5. April 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/205C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
1.022 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Jones, Helen M.M
London, Großbritannien
946
Patente gesamt
31
Fachgebiete
20
Anmelder-Länder
Schwerpunkte